RTEÜ’DEN İMPLANTLARDA ÇIĞIR AÇAN BULUŞ: ÖMÜR BOYU KULLANIM SAĞLANACAK

RTEÜ Akademisyenleri tarafından geliştirilen antibakteriyel özellikli dental implant, Türk Patent ve Marka Kurumu tarafından tescil edildi.

RTEÜ’den İmplantlarda Çığır Açan Buluş: Ömür Boyu Kullanım Sağlanacak

Recep Tayyip Erdoğan Üniversitesi (RTEÜ) Akademisyenleri tarafından geliştirilen “Metal-Organik Kafes (MOF) Yapı İçeren Antibakteriyel/Antimikrobiyal Özellikli Dental İmplant ve Bunun Üretim Yöntemi” başlıklı patent başvurusu, Türk Patent ve Marka Kurumu tarafından tescil edildi.

Patent çalışmasının özgün değeri, diş implant uygulamalarında meydana gelen boşluğun antibakteriyel bir depo olarak kullanılmasını içermesinden kaynaklanıyor.

Günümüzde tıbbi uygulamalarda kullanılan implantlarla ilgili olarak, implant bünyesinde oluşan yüksek değerdeki statik basıncın metal yorgunluğuna neden olması ve implant yüzeyine uygulanan antibakteriyel katmandaki iyonların dokuya kolayca geçerek toksik etkiler oluşturması gibi olumsuz durumlar gözlemlenmektedir.

RTEÜ akademisyenleri tarafından geliştirilen bu yeni implant modeli, insan vücudunun çeşitli bölgelerinde kullanılabilir olmasının yanı sıra depo olarak kullanılan boşluk bölgesine farklı antibakteriyel ajanlar yüklenebilmesini de mümkün kılmaktadır.

Yeni tasarım sayesinde, söz konusu depoya farklı antibakteriyel ajanlar ve ilaçlar kolayca yerleştirilebilmektedir. Bu durum, piyasadaki mevcut implantlara kıyasla yeni tasarımın uzun süre antibakteriyel özelliğini korumasını sağlamaktadır.

RİZE (UHA) - HIZIR TATOĞLU

EKONOMİ